Electronic Chemicals G4 hlorovodonična kiselina

Electronic Chemicals G4 hlorovodonična kiselina

Revizija dokumenta: 01
Datum izdavanja: 02.09.2026
Primjenjivi standard: SEMI G4 stepen (poluprovodnička ultra-mokra kemikalija visoke čistoće)

Identifikacija proizvoda

 

Stavka

Specifikacija

Naziv proizvoda

G4 Hlorovodonična kiselina

Kategorija proizvoda

Semiconductor Electronic Wet Chemical

Hemijski naziv

Hlorovodonična kiselina

Hemijska formula

HCl

CAS br.

7647-01-0

Molecular Weight

36.46

UN broj

1789

Ocjena

SEMI G4 Ultra-elektronski razred visoke čistoće

 

Pregled proizvoda

 

G4 hlorovodonična kiselina je neorganska kiselina visoke-posebno pročišćene za proizvodnju poluvodičkih pločica i proizvodnju napredne mikroelektronike. Proizveden putem ultra-pročišćavanja, niskog-filtracije-kontaminacije i procesa čistog-punjenja prostorija, ovaj proizvod sadrži ultra-niske tragove jona metala, anjonskih nečistoća i mikro-čestica, u potpunosti u skladu sa SEMI G4 industrijskim specifikacijama.


To je osnovna vlažna hemikalija za poluprovodničke prednje{0}} procese, koja efikasno uklanja metalne zagađivače, jonske ostatke i nečistoće oksida na površinama pločice. Stroga kontrola nečistoća eliminiše rizik od mikro-kontaminacije, osiguravajući visok prinos i stabilne performanse za napredne procese proizvodnje čipova.


Izgled:Bezbojna, prozirna i bistra tečnost sa blagim oštrim mirisom

 

Tehničke specifikacije (SEMI G4 Standard)

 

Test Item

Specifikacija

HCl Assay

36,0 ~ 38,0 tež.%

Izgled

Bezbojna i bistra prozirna tečnost

Boja (APHA)

Manje ili jednako 10

Gustina @ 20 stepeni

1,18 ~ 1,19 g/cm³

Ostatak isparavanja

Manje ili jednako 50 ppb

Pojedinačni metali u tragovima (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr)

Manje ili jednako 10 ppb svaki

sulfat (SO₄²⁻)

Manje ili jednako 50 ppb

nitrati (NO₃⁻)

Manje ili jednako 50 ppb

Slobodni klor (Cl₂)

Manje ili jednako 50 ppb

fosfat (PO₄³⁻)

Manje ili jednako 30 ppb

Čestice veće ili jednake 0,2 μm

Manje ili jednako 100 kom/mL

 

Napomena:Svi podaci testiranja su zasnovani na serijsko{0}}specifičnom COA (Certifikat analize).

 

Primjene (mokri proces poluprovodnika)

 

Čišćenje površine vafla:Uklonite zaostale ione metala, anorganske zagađivače i površinske oksidne slojeve na silikonskim pločicama, poboljšajte čistoću površine pločice za naknadne procese jetkanja i taloženja.

Poluprovodničko mokro graviranje:Koristi se za precizno mikro-jetkanje materijala na bazi silikona- i složenih poluvodičkih supstrata sa stabilnom brzinom jetkanja i ujednačenim efektom obrade.

Proces pripreme otopine:Formulirajte mješovita rješenja za čišćenje i jetkanje za proces čišćenja RCA, u skladu sa zahtjevima za naprednu{0}}proizvodnju prednjeg dijela poluvodiča.

Napredno pakovanje i MEMS proces:Površinska obrada i uklanjanje nečistoća za MEMS uređaje, pakovanje čipova i obradu mikroelektronskih komponenti.

 

Standard pakovanja i punjenja

 

Vrsta pakovanja:Clean{0}}HDPE zatvoren bubanj / IBC čista torba

Uobičajena specifikacija:25kg / 30kg mali bubanj, 1000kg IBC torba

Okruženje za punjenje:Čista soba klase 1000, nula sekundarne kontaminacije, strogo kontrolirano unošenje čestica i nečistoća

Standard za zaptivanje:Profesionalno zatvoreno pakovanje-otporno na kiselinu, protiv-isparivanja i-propuštanja

 

Skladištenje i rok trajanja

 

● Čuvajte u hladnom, suvom, provetrenom i namenskom skladištu hemikalija, dobro zatvoreno, dalje od direktne sunčeve svetlosti, visoke temperature i izvora toplote.

● Izolujte od alkalnih supstanci, oksidansa i organskih hemikalija da biste izbegli hemijsku reakciju i kontaminaciju.

● Strogo izbjegavajte dugotrajno-otvoreno postavljanje kako biste spriječili hlapljivo propadanje i apsorpciju nečistoća.

● Rok trajanja: 12 meseci pod standardnim zatvorenim uslovima skladištenja

 

Rukovanje i sigurnosne mjere

 

● Hlorovodonična kiselina je korozivna i isparljiva. Operateri moraju nositi kompletnu OZO: rukavice-otporne na kiseline, hemijske naočare, pregaču-otpornu na koroziju i zaštitnu odjeću.

● Radite u ventiliranom okruženju; izbegavajte udisanje isparljivih gasova i direktan kontakt sa kožom i očima.

● Operacija razblaživanja: polako dodajte kiselinu u vodu, nikada ne dodajte vodu u koncentrovanu hlorovodoničnu kiselinu da biste sprečili prskanje i povrede.

● U slučaju kontakta ili curenja, slijedite SDS smjernice za hitne slučajeve za pravovremeno čišćenje i odlaganje.

● Za potpunu klasifikaciju opasnosti, pravila transporta i mjere prve{0}}pomoći, pogledajte službeni SDS dokument.

 

Osiguranje kvaliteta

 

Svaka serija G4 hlorovodonične kiseline proizvodi se i kontroliše u skladu sa SEMI G4 međunarodnim standardima. Svaka pošiljka je popraćena službenim COA-om. Svi procesi proizvodnje, pročišćavanja i punjenja usvajaju strogu kontrolu kontaminacije čistih-prostora kako bi se osigurao stabilan i dosljedan kvalitet proizvoda za vrhunske primjene u proizvodnji poluvodiča.

 

Specifikacija hlorovodonične kiseline

 

Naziv proizvoda

Ocjena

Relativna molekulska masa

Molekularna formula

Hlorovodonična kiselina

Elektronske hemikalije G4

36.46

HCl

 

Pregledajte predmete

Specifikacije

Pregledajte predmete

Specifikacije

Izgled

Bezbojna prozirna vodena otopina hlorovodonika

Nikl (Ni), ppt

Manje ili jednako 100

Analiza (HCl), %

36.0~38.0

Cupric (Cu), str

Manje ili jednako 100

Kromatičnost, Hazen jedinice

Manje ili jednako 10

Cink (Zn), ppt

Manje ili jednako 100

Ostatak sagorevanja (na bazi sulfata), ppm

Manje ili jednako 3

Galij (Ga), ppt

Manje ili jednako 100

slobodni raspoloživi hlor (Cl), ppb

Manje ili jednako 100

Germanijum (Ge), ppt

Manje ili jednako 100

Amonijum (NH₄), ppb

Manje ili jednako 100

Arsen (As), ppt

Manje ili jednako 100

Sulfat (SO₄), ppb

Manje ili jednako 100

Stantium (Sr), str

Manje ili jednako 100

Sulfiti (SO₂), ppb

Manje ili jednako 100

Cirkonijum (Zr), ppt

Manje ili jednako 100

Fosfat (PO₄), ppb

Manje ili jednako 100

Niobij (Nb), str

Manje ili jednako 100

Litijum (Li), ppt

Manje ili jednako 100

Molibden (Mo), ppt

Manje ili jednako 100

Berilijum (Be), ppt

Manje ili jednako 100

Srebro (Ag), ppt

Manje ili jednako 100

Bor (B), str

Manje ili jednako 100

Kadmijum (Cd), ppt

Manje ili jednako 100

Natrijum (Na), ppt

Manje ili jednako 100

Tin (Sn), ppt

Manje ili jednako 100

Magnezijum (Mg), str

Manje ili jednako 100

Barijum (Ba), ppt

Manje ili jednako 100

Aluminijum (Al), ppt

Manje ili jednako 100

Tantal (Ta), ppt

Manje ili jednako 100

Kalijum (K), ppt

Manje ili jednako 100

Zlato (Au), ppt

Manje ili jednako 100

Kalcijum (Ca), ppt

Manje ili jednako 100

Talij (Tl), ppt

Manje ili jednako 100

Titanijum (Ti), ppt

Manje ili jednako 100

Olovo (Pb), ppt

Manje ili jednako 100

Vanadijum (V), str

Manje ili jednako 100

Bizmut (Bi), ppt

Manje ili jednako 100

Krom (Cr), str

Manje ili jednako 100

Čestice (veće ili jednake 0,2μm), kom/mL

Manje ili jednako 300

Mangan (Mn), ppt

Manje ili jednako 100

Čestice (veće ili jednake 0,3 μm), kom/mL

Manje ili jednako 100

Gvožđe (Fe), str

Manje ili jednako 100

Čestice (veće ili jednake 0,5 μm), kom/mL

Manje ili jednako 5

Kobalt (Co), ppt

Manje ili jednako 100

Kraj izvještaja

-

 

Popularni tagovi: elektronske hemikalije g4 hlorovodonična kiselina, Kina elektronske hemikalije g4 hlorovodonična kiselina proizvođači, dobavljači, fabrika

Pošaljite upit