Electronic Chemicals G4 fluorovodična kiselina (semiconductor Wet Chemical)

Electronic Chemicals G4 fluorovodična kiselina (semiconductor Wet Chemical)

Revizija dokumenta: 01
Datum izdavanja: 02.09.2026
Primjenjivi standard: SEMI G4 stepen (poluprovodnička ultra-mokra kemikalija visoke čistoće)

Identifikacija proizvoda

 

Stavka

Specifikacija

Naziv proizvoda

G4 fluorovodična kiselina (HF)

Kategorija proizvoda

Semiconductor Electronic Wet Chemical

Hemijski naziv

Fluorovodična kiselina

Hemijska formula

HF

CAS br.

7664-39-3

Molecular Weight

20.01

UN broj

1790

Ocjena

SEMI G4 Ultra-elektronski razred visoke čistoće

 

Pregled proizvoda

 

G4 Fluorovodična kiselina je neorganska kiselina na bazi fluora-visoke čistoće- ekskluzivno rafinirana za naprednu proizvodnju poluvodičkih pločica i proizvodnju mikroelektronike. Usvajajući više-fabričko ultra-pročišćavanje, filtraciju bez korozije-i klasu 1000 čiste-tehnologije punjenja prostorija, proizvod sadrži ultra-niske tragove metala, anjonskih nečistoća i mikro-sadržaja mikročestica, u potpunosti u skladu sa strogim međunarodnim standardima SEMI G4.

 

Kao jezgro selektivnog jetkanja i vlažne hemikalije za čišćenje u prednjim- procesima poluvodiča, pokazuje odličnu selektivnost jetkanja za slojeve silicijum oksida uz minimalno oštećenje silicijumskih supstrata i nitridnih filmova. Stroga kontrola nečistoća efikasno izbjegava mikro-kontaminaciju i defekte pločice, osiguravajući visok prinos i dugoročnu stabilnost-za napredne procese proizvodnje čipova.

 

Izgled:Bezbojna, bistra i prozirna isparljiva tečnost

 

Tehničke specifikacije (SEMI G4 Standard)

 

Test Item

Specifikacija

HF test

48,5 ~ 49,5 tež.%

Izgled

Bezbojna i bistra prozirna tečnost

Boja (APHA)

Manje ili jednako 5

Gustina @ 20 stepeni

1,15 ~ 1,18 g/cm³

Ostatak isparavanja

Manje ili jednako 30 ppb

Pojedinačni metali u tragovima (Na, K, Ca, Mg, Fe, Cu, Al, Zn, Ni, Cr)

Manje ili jednako 10 ppb svaki

Fluosilicijeva kiselina (H₂SiF₆)

Manje ili jednako 10 ppm

sulfat (SO₄²⁻)

Manje ili jednako 30 ppb

nitrati (NO₃⁻)

Manje ili jednako 30 ppb

hlorid (Cl⁻)

Manje ili jednako 30 ppb

Čestice veće ili jednake 0,2 μm

Manje ili jednako 100 kom/mL

 

Napomena:Svi podaci testiranja su zasnovani na serijsko{0}}specifičnom COA (Certifikat analize).

 

Primjene (mokri proces poluprovodnika)

 

Uklanjanje prirodnog oksida vafla:Selektivno ukloniti prirodni silicijum oksid i zaostale oksidne kontaminante na površinama silicijumske pločice bez oštećenja silicijumske podloge, optimizujući stanje površine za procese taloženja, litografije i jetkanja.

Precizno selektivno graviranje:Koristi se za fino jetkanje SiO₂ dielektričnih slojeva, slojeva oksida vrata i slojeva tankog filma u proizvodnji IC-a, odlikuje se visokom uniformnošću jetkanja i odličnom kontrolom procesa kako bi se osigurao precizan prijenos uzorka.

RCA proces mokrog čišćenja:Služi kao ključna komponenta modificiranih RCA rješenja za čišćenje za eliminaciju mikro-čestica, jonskih nečistoća i organskih ostataka na površinama vafla, poboljšavajući ukupnu čistoću vafla.

Napredno pakovanje i MEMS proces:Primjenjuje se za površinsku obradu, mikro-jetkanje i uklanjanje nečistoća MEMS uređaja, poluvodičkih senzora i naprednih komponenti za pakiranje čipova, prilagođavajući se zahtjevima visoko{1}}precizne mikroelektronske proizvodnje.

 

Standard za pakiranje i punjenje

 

Vrsta pakovanja:Na koroziju-otporni PTFE-obloženi/čisti- HDPE zapečaćeni bubanj, namensko pakovanje HF hemikalija

Uobičajena specifikacija:25kg / 30kg mali bubanj, 1000kg IBC torba otporna na koroziju-

Okruženje za punjenje:Čista soba klase 1000, potpuno bez korozije-sistem za proizvodnju i punjenje, nula sekundarne kontaminacije

Standard brtvljenja:Specijalna zaptivka protiv-isparljiva i-zapečaćena struktura, striktno sprečava gubitak hlapljivosti i vanjsku kontaminaciju

 

Skladištenje i rok trajanja

 

● Čuvajte u hladnom, suvom, provetrenom skladištu hemikalija za fluor, dobro zatvoreno, dalje od direktne sunčeve svetlosti, visoke temperature i izvora toplote.

● Strogo izolujte od staklenih proizvoda, alkalnih supstanci, oksidansa i metalnih materijala kako biste izbegli hemijsku koroziju i neispravnu reakciju.

● Zabranite dugotrajno-otvoreno skladištenje kako biste spriječili hlapljivo propadanje i kontaminaciju upijanjem vlage.

● Rok trajanja:12 meseci pod standardnim zatvorenim uslovima skladištenja

 

Rukovanje i sigurnosne mjere

 

● Fluorovodonična kiselina je veoma korozivna i isparljiva. Operateri moraju nositi profesionalnu prateću osobnu zaštitnu opremu: rukavice otporne na fluor-, potpuno zatvorene hemijske naočale, kecelju-otpornu na koroziju i zaštitnu odjeću.

● Sve radnje se moraju izvoditi u profesionalnim napama; izbegavajte udisanje isparljivih gasova i direktan kontakt sa kožom, očima i sluzokožom.

● Tokom razblaživanja i doziranja, polako dodajte kiselinu u dejonizovanu vodu; nikada nemojte dodavati vodu u koncentriranu fluorovodoničnu kiselinu kako biste spriječili prskanje i sigurnosne nezgode.

● Posebne mjere prve{0}}pomoći će se odmah usvojiti u slučaju slučajnog kontakta ili curenja i striktno slijediti SDS smjernice za hitno odlaganje.

● Za potpunu klasifikaciju opasnosti, propise o transportu i postupke prve{0}}pomoći, pogledajte službeni SDS dokument.

 

Osiguranje kvaliteta

 

Svaka serija G4 fluorovodonične kiseline proizvodi se, pročišćava i kontroliše u strogom skladu sa SEMI G4 međunarodnim poluprovodničkim standardima. Svaka pošiljka je priložena sa -specifičnim službenim COA-om. Cijeli proces proizvodnje i punjenja usvaja strogu-kontrolu kontaminacije čistih prostorija i upravljanje procesom otpornim na koroziju-, osiguravajući ultra-visoku čistoću i stabilan kvalitet kako bi se zadovoljili strogi zahtjevi naprednih procesa mokre proizvodnje poluvodiča.

 

Popularni tagovi: elektronske hemikalije g4 fluorovodonična kiselina (poluprovodničke vlažne hemikalije), Kina elektronske hemikalije g4 fluorovodonična kiselina (poluprovodničke vlažne hemikalije) proizvođači, dobavljači, fabrika

Pošaljite upit